核徑跡防偽標簽簡介及特點

核徑跡防偽標簽簡介及特點

   核徑跡防偽標簽是將客戶要求的圖案通過成像技術、采用原子能核反應堆進行輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級的微孔，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，微孔斜度30-50度、密度每平方厘米約40-200萬個，經(jīng)過特殊工藝將薄膜與基材復合，再經(jīng)過印刷制成防偽標簽。

   核徑跡防偽標簽的特點是：

   1、核徑跡膜無法進行私人生產(chǎn)，必須使用原子核反應堆等國家專控大型核設施。因國內(nèi)只有極少數(shù)在國家控制下的核研究單位擁有核設施，屬國家管理，具有高壟斷性，私人基本不可能得以使用。        

   2、核徑跡防偽標簽的圖案由每平方厘米40-200萬個微米級的微孔組成，可達到“微觀設密、宏觀顯示”，使微不可見的像素集合“放大”成為可見的宏觀圖案，該技術所制圖案不可仿造。

   3、核徑跡防偽標簽需要經(jīng)過核研究單位權威部門進行產(chǎn)品安全評價報告，符合國家“GB4792-84”放射衛(wèi)生防護標準，放射水平需為本底膜水平，才可用于食品、藥品等各類產(chǎn)品的防偽。